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主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長，該回轉(zhuǎn)加熱系統(tǒng)集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐膛使用高純氧化鋁纖維材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱系統(tǒng)設(shè)計為上下可開啟式結(jié)構(gòu)，方便觀察石英管以及物料的狀態(tài)。

薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境。該設(shè)備技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠，溫場均勻，結(jié)構(gòu)合理，法蘭以卡箍密封，安裝拆卸簡便快捷，是各大材料實驗室的理想設(shè)備之一。

該系統(tǒng)為 PECVD系統(tǒng)，它包括真空管式爐系統(tǒng)、石英真空室、真空抽氣與真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、匹配器，溫度范圍寬：100-1100度可調(diào)。適用范圍寬:金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復(fù)合薄膜，連續(xù)生長各種薄膜等